Pfeiffer Vacuum Aus Leidenschaft für Perfektion

Turbopumpstände

Turbopumpstände HiCube - Pfeiffer Vacuum

Die komplette Lösung für Hochvakuumanwendungen: Der modulare Pumpstand für sauberes Vakuum.

Mit den HiCube Turbopumpständen haben wir die perfekte Vakuumlösung für Anwendungen in den Bereichen Forschung und Entwicklung, Beschleuniger, Analytik und Oberflächenphysik sowie Vakuum prozesstechnik und allgemeine Vakuumanwendungen für Sie entwickelt.

Durch das Baukastenprinzip bieten wir mit der HiCube Serie eine nie dagewesene Vielfalt, die den unterschiedlichsten Anforderungen im Saugvermögensbereich von 35 l/s bis 685 l/s gerecht wird. Turbopumpe und Vorpumpe sind perfekt aufeinander abgestimmt: „Plug and Play“, wie man es sich wünscht.

Das Besondere an der Vakuumlösung HiCube: Die Kombination einer Turbopumpe der HiPace Serie mit einer Vorpumpe, die auf Anwendungsspezifische Anforderungen ausgelegt ist. Wir bieten Ihnen den neuen HiCube in den Varianten Classic und Pro an; erhältlich mit trocken verdichtender oder ölgedichteter Vorpumpe und einem Enddruck von bis zu 5 · 10-10 mbar.

Alle HiCube Pumpstände bieten, dank ihrer Mobilität, einfachste Hochvakuum erzeugung genau dort, wo sie gebraucht wird. Die robuste Verarbeitung und die anschluss - fertige, vollautomatisch arbeitende Pumpeinheit sichern höchste Zuverlässigkeit.

Vorteile

  • Kombination von Turbo- und Vorpumpe optimal aufeinander abgestimmt; für vielfältigste Anwendungen einsetzbar
  • Modularer Aufbau ermöglicht einfaches Umrüsten je nach Einsatzzweck
  • Servicefreundlich durch gute Zugänglichkeit zu den Einzelkomponenten
  • Integrierte Antriebselektronik, keine zusätzliche Steuerung nötig
  • „Plug and Play“ – keine Installation oder Verkabelung notwendig
  • Langlebiger Einsatz und hohe Sicherheit dank robuster Konstruktion
  • Vorvakuum-Sicherheitsventil (optional) verhindert Fluten des Rezipienten bei Stromausfall
  • Direkter Anschluss von Vakuummessröhren möglich

Anwendungen

  • Forschung und Entwicklung
  • Beschleuniger
  • Analytik und Oberflächenphysik
  • Vakuumprozesstechnik
  • Allgemeine Vakuumanwendungen
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