Vakuumlösungen für die Metrologie
Die Massenproduktion in einem extrem kostengetriebenen Wettbewerbsumfeld erfordert höchste Aufmerksamkeit im Bezug auf Qualitätssicherung und niedrigste Ausschussquoten. Da die Strukturabstände auf 65 nm und kleiner schrumpfen, sind Inspektionsmaschinen entwickelt worden, die schnellstens Defekte auf dem Wafer im Nanobereich finden und wenn möglich reparieren, sodass die Chips auf dem Wafer verwendet werden können. Geprüft werden z. B. Chrommasken und Wafer.
Die vorwiegend eingesetzten Technologien sind Rasterelektronenmikroskope (SEM) und Rasterlasermikroskope (LSM). Um höchste Auflösung zu erzielen, wird vibrationsfrei erzeugtes Ultrahochvakuum im Bereich von 10-11 mbar zur Erzeugung des Elektronenstrahls in der Säule benötigt. Die Prozesskammer und die Schleusen benötigen ebenfalls Hochvakuum, das mit Turbomolekularpumpen im Bereich von 10-3 - 10-4 erzeugt wird.
Einsatzgebiete unserer Produkte sind:
- Rasterelektronenmikroskop (SEM)
- Raster-Lasermikroskop (LSM)
- Schleusen
Eingesetzt werden folgende Produkte zur:
Vakuummessung
Lecksuche
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