Vakuumlösungen für die Lithographie
Durch lithographische Verfahren werden die Strukturen der Schaltkreise von der Maske übertragen. Dabei findet ein Verkleinerungsprozess mit höchster Präzision statt. Die Art des eingesetzten Lithographieverfahrens hängt von der Wellenlänge der Strahlung beim Belichtungsprozess ab.
Der Vakuumprozess läuft im Hoch- bis Ultrahochvakuum im Bereich von bis zu 10-9 mbar ab. Wichtigste Kriterien sind Vibrationsarmut und keine Kontamination der Optiken und Spiegel.
Einsatzgebiete unserer Produkte sind:
- Photolithographie
- Röntgen-Lithographie
- Elektronenstrahl-Lithographie
- EUV Lithographie
- Schleusen
Eingesetzt werden folgende Produkte zur:
*Vakuummessung*
Quantitative Analyse
Lecksuche
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