Vakuumlösungen für die Ionenimplantation
Ionenimplantation ist eine der Schlüsseltechnologien und wird mehrfach bei der Herstellung der Chips angewendet. Während des Prozesses wird der Wafer mit einem Strahl elektrisch geladener Ionen, auch Dotierung genannt, beschossen. Die heute angebotenen Systeme sind universell für die verschiedensten Prozesse einsetzbar.
Die benötigten Implantationsenergien reichen bis zu 5 MeV, um die Produktionsanforderungen für 300 mm Wafer zu erfüllen. Der Implanter besteht aus mehreren Modulen wie der Ionenquelle, dem Analysatormagnet, der Strahlführung und den Schleusen. Das von Turbopumpen erzeugt Vakuum liegt im Bereich von 10-4 - 10-7 mbar. Für Schleusenanwendungen bietet sich der revolutionäre OnTool Booster an.
Einsatzgebiete unserer Produkte sind:
- Quelle
- Beamline
- Analysatormagnet
- Schleuse
Eingesetzt werden folgende Produkte zur:
Vakuummessung
Quantitative Analyse
Lecksuche
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